2019年，日韩发生冲突，日本封闭了三种要害的半导体资料，分别是氟化氢、聚酰亚胺和光刻胶。这三种资料韩国，我国都可以制作，但要害在于能造是一回事，能用是另一回事，这其实也是半导体资料工业的中心问题所在。
不管是氟化氢、聚酰亚胺、光刻胶仍是硅片，纯度是其最中心的规范之一。比方关于光刻胶来说，现在国外的光刻胶阻抗可以做到10^15，国内基本上停留在10^10。阻抗越高纯度越高，光刻胶纯度缺乏会构成芯片良率下降，乃至污染事端。2019年台积电就由于光阻质料污染导致上万片12寸晶圆作废，直接丢失达5.5亿美元。
氟化氢也是相同的问题。氟化氢是一种无机酸，是半导体制作过程中必要资料，常被用来清洗和蚀刻晶圆，这种资料的难点也在于其对纯度要求特别高。
依据其纯度不同，分为EL、UP、UPS、UPSS、UPSSS等级，其间UPSS、UPSSS是高端半导体等级，而这个等级的氢氟酸仅仅检测过程就需求用到尖端的质谱仪、扫描电镜、原子力显微镜等。其存储设备的内衬、管道阀门等都是世界级难题，现在也只要日本企业能大规划出产，国内有几家企业能做到电子级氢氟酸，但产能不高。
就拿光刻胶的溶剂来说，一款光刻胶，溶剂的含量占有光刻胶总质量的80%~90%，光刻胶最常运用的溶剂为丙二醇甲醚醋酸酯（PMA），它具有很好的溶解性，性状安稳，合适将成膜树脂和光引光剂液化以便于旋转涂敷。
现在，世界丙二醇醚及酯类产品的出产首要会集在美国、西欧及我国等国家和地区，首要是美国陶氏化学、伊士曼化学，荷兰利安德巴塞尔，德国巴斯夫，这些国外企业从事丙二醇醚及其酯的工业化出产，这些企业深耕这一范畴已有30多年的前史，具有丰盛的技能经历，并不是国产企业可以一朝一夕可以拿下的。
在液晶显现的运用上，CPI薄膜则代表了聚酰亚胺的最高研讨和开展水平，可是这一范畴一直以来都是美国的杜邦、日本的住友化学以及三井化学等企业的全国，三星的柔性显现用CPI通明薄膜的配方就来自住友化学。
均苯四甲酸二酐是制备聚酰亚胺的重要原资料，现在这种原资料首要把握在国外企业手中，全球的年产量为6万吨，国内工业约为5000吨。并且，均苯四甲酸二酐的纯度关乎于聚酰亚胺的胜败，假如纯度不行，更简单发生副反应，导致出产的聚酰亚胺纯度不合格。
现在的光刻技能现已进入EUV年代，台积电、英特尔和三星纷繁活跃导入EUV技能，与之对应的是EUV光刻胶的需求上升，与ArF浸没式光刻比较，EUV光刻技能有很高的图形保真度和规划灵活性，所需的光掩模数量很少，显现出显着的优势。
但国产光刻胶企业想要打破它，不只面临原资料、纯度等难题，还面临强壮的专利壁垒。
从全球EUV光刻胶专利的请求量上来看，1998年EUV光刻胶专利的请求量只要6件，尔后十年间，大多数时分都是年平均两位数的请求量。从2010年开端的四年间，请求数量破百，并且持续增长，到2013年抵达高峰。当年的请求量有164件，尔后又逐渐回落至两位数，到2017年，EUV光刻胶专利的请求量只要15件。
这一趋势阐明，在本世纪前13年里，EUV光刻胶的技能在不断的前进，各大厂商都在活跃探索EUV光刻胶技能，所以专利数才会不断上升，而在2013年之后，该项技能走向老练，由此专利数量开端急剧削减。
此外，从专利请求量的前十名来看，日本就占有了七席，专利请求数量占比高达90%，富士胶片以422件的绝对优势排在榜首，在前十名中，只要美国的罗姆哈斯和陶氏化学，以及韩国的三星电子3家非日本企业。
与半导体规划、半导体封测乃至晶圆工业比较，光刻胶是一个“小众”工业，并且光刻胶还分为显现面板用光刻胶和半导体用光刻胶，半导体用光刻胶的规划远小于面板用光刻胶。
依据TECHCET的一份猜测数据显现，2021年整个半导体用光刻胶的商场只要19亿美元的规划。而这一商场又是高度会集，拿ArF光刻胶举例，日本的JSR、信越化学、东京应化、住友化学四家企业就占有了82%的商场份额，KrF光刻胶商场中，东京应化、信越化学、JSR和杜邦占有了85%的商场份额。
并且从公司规划来看，光刻胶并不是这些的主营事务，光刻胶仅仅占有了其营收中极小的一部分。
以信越化学为例，其2019年的营收大约为147亿美元左右，而当年的全球半导体光刻胶商场规划也才13亿美元左右，所以比较较之下，光刻胶并不是巨子们的最中心事务。
与之比较的是，国内的光刻胶企业不管从技能仍是规划上，都与巨子们有比较大的距离。南大光电和晶瑞股份是国内的光刻胶龙头企业，2019年，南大光电的营收为3.21亿元，净赢利0.55亿元，同年晶瑞股份的营收为7.6亿元，净赢利为0.31亿元，由此可见一斑。
并且由于需求加快追逐，国内光刻胶企业近年来相继斥资购买光刻机来验证产品功能，由于光刻机价格昂贵，买了一台光刻机相当于请了一个吞金兽，关于国产光刻胶企业来说，压力倍增。
再者，由于光刻胶的运用环境杂乱且多样，有时乃至需求针对每个工厂进行特别定制，很难规范化和模块化，光刻胶从研制成功到进入客户验证阶段，并被大规划运用，中心所需求的时刻都是依照年为单位核算。一般情况下客户并不乐意容易的替换光刻胶供货商。
IMEC全名为比利时微电子研讨中心，是全球半导体的目标性研制组织，许多半导体工业的最新技能道路和规范都出自这儿，所以这儿也是光刻胶巨子们的必争之地。
2013年，富士胶片就与IMEC协作，为有机半导体亚微米技能开发一种新的光刻胶技能。2017年，JSR与IEMC在比利时一起成立了EUV光刻胶制备和认证中心，意图是保证EUV光刻胶的认证和半导体范畴运用的质量操控。JSR与IMEC结盟这一步棋，让自己既当选手，又当了裁判，牢牢捉住主动权。
此外，上一年2月，在JSR的主导下，EUV光刻胶前驱Inpria完结了C轮3100万美元的融资，参投方包含SK海力士、三星、英特尔、台积电。
Inpria是一家美国资料商，2007年从俄勒冈州立大学化学研讨所独立出来，其研制负性光刻胶，分子巨细是CAR有机光刻胶的五分之一，重点是光吸收率可达CAR的4〜5 倍，因此能更精细，更精确地让电路图构成形。
由于光刻胶巨子们有商场优势和技能优势，所以也意味着它们有更多的话语权，与此一起，他们也在活跃的在前沿技能上布局，与上下流企业结盟，构成一道简直牢不可破的防地。
除了以上的技能、商场及原资料等许多中心要素之外，限制国产光刻胶开展的还有许多非中心要素。
比方除了光刻胶以外，光刻胶辅助资料、光刻胶专用试剂也具有较高的技能壁垒，例如抗反射涂层的配方首要把握在JSＲ、信越化学、陶氏化学、Merck 等世界光刻胶巨子手里。
在采访国内几家光刻胶上市企业时，其相关负责人都不谋而合的提到了“瓶子”这个要害词，他们表明，装光刻胶所需求用到的瓶子现在国内企业还无法出产，需求进口。
国产企业的瓶子有的是功能不合格，有的是纯度不行有杂质。当然，国内也不是彻底造不出瓶子，问题在于光刻胶企业所需求的瓶子数量太少，一些大的公司不乐意为这样小的一个产品去专门研制和拓荒一条产线，由于经济效益不高。
此外，光刻胶的保质期也比较短，大概在3~6个月左右，在运送过程中又需求冷链运送，而冷链运送会进步全体本钱，所以终究导致光刻胶价格上去，这严峻不利于光刻胶的推行运用。
全球硅片商场中，信越化学、住友胜高、世创、举世晶圆四家企业占有了80%以上的商场份额，并且在硅片的出产过程中，也遇到了“盒子”问题，装硅片所需求用到的“盒子”也需求进口，其间原因简直与光刻胶相同。
在半导体抛光中，抛光垫面临也面临与光刻胶相同的困境，商场规划小，验证周期长，技能难度又高，还被高度独占。现在的抛光垫简直彻底依靠进口，商场由美国陶氏化学（约80%商场份额）、美国卡博特、日本东丽等公司独占，产品毛利率在50%以上。
在面板工业中，基板玻璃是LCD的重要原资料之一，在OLED面板制程首要充任柔性PI（聚酰亚胺）基板的载板基底，但现在我国95%的基板玻璃商场都被美国的康宁和日本的旭硝子，电气硝子三家所独占。
电子特气是仅次于大硅片的第二大晶圆制作资料。这一职业也是高度独占，空气化工、普莱克斯、林德集团、液化空气和大阳日酸等五大公司操控着全球90%以上的商场份额。
尽管完结光刻胶国产化阻力重重，可是最近一年时刻，国产光刻胶也迎来了黄金期。先是南大光电宣告公司自主研制的ArF光刻胶产品现已经过了武汉新芯的运用认证，各项功能满意工艺标准要求，良率成果合格，成为经过经过产品验证的榜首只国产ArF光刻胶。
随后晶瑞股份也宣告公司KrF(248nm深紫外)光刻胶已完结中试，产品分辨率达到了0.25~0.13μm的技能要求，建成了中试演示线。上海新阳也表明购买用于研制光刻胶的光刻机行将到位。
此外，在微观层面上，上一年下半年，发改委等四部分就宣告扩展战略新兴工业出资，聚集“卡脖子”问题，其间就包含光刻胶。
在税收方面，国家鼓舞的集成电路规划、配备、资料、封装、测验企业和软件企业，自获利年度起，榜首年至第二年免征企业所得税，第三年至第五年依照25%的法定税率折半征收企业所得税。
面临如此困难的一条路，国产光刻胶能攻下ArF和KrF实属不易，但光刻胶国产化仍然长路漫漫，既要战胜国外的技能壁垒，又要可以拿下更多的商场，而这些问题并不是单纯一两家企业能搞定的。
首要光刻胶方面的人才数量严峻缺乏，这需求教育层面处理。第二点是，国产光刻胶研制成功之后，国内的下流企业是否乐意给国产光刻胶一个生长的时机。据了解，现在国产光刻胶研制成功之后，还面临被压价的困境，没有满足的赢利就无法投入更多的资金去研制，在高端技能上，贱价无疑还会冲击国产光刻胶企业的活跃性。
相关工业人士提出了用面板光刻胶养半导体光刻胶的设想。该工业人士以为，半导体光刻胶商场规划小，可是技能壁垒高，而面板光刻胶商场规划相对较大，壁垒又相对较小。所以，面板工业可以优先扶持国产光刻胶，在这个过程中也可以培育更多的技能性人才，终究完结“大工业带动小工业”。
面临重重困难，是什么让国产光刻胶企业可以坚持下来呢？抱负主义可能是一方面，究竟光刻胶是一个吃力不讨好的活儿。
一位资深的职业人士表明，“他自己现已在光刻胶工业干了大半生，最大的愿望便是期望退休前能看到国产光刻胶完结彻底的自主。”
而国产半导体资料，乃至国产半导体工业想要完结打破，也需求抱负主义的信仰，当然也需求钱，坚持抱负的人不该是穷着的。
在电子信息工业高速开展的今日，为推进改进光刻胶资料及设备呈现的“卡脖子”问题，一起也为加强职业界产品与技能、商场现状与趋势的沟通，促进政-产-学-研-资各环节协同开展，势银（TrendBank）将约请业界资深专家、头部企业高层于6月举行“2021势银光刻胶工业大会”。
