原标题：填补国内空白，松江这家有突出贡献的公司突破国外技术垄断丨聚焦高水平发展首要任务
上海新阳半导体材料股份有限公司（以下简称“上海新阳”）近日在投资者关系平台上表示，公司开发的I线、KrF光刻胶已有多型号的产品实现小批量、持续销售，目前在多个客户端来测试和验证。这标志着上海新阳拥有完整自主可控知识产权的第三代核心技术已形成，公司在国内半导体功能性化学材料领域的龙头地位将更加稳固。
总部位于长三角G60科创走廊策源地松江的上海新阳，专注于半导体行业所需功能性化学材料产品及应用技术的研发创新、生产制造和销售服务，致力于为用户更好的提供化学材料、配套设备、应用工艺和现场服务一体化的整体解决方案。一直以来，上海新阳从始至终坚持瞄准国际前沿技术，面向全球产业需求，突破国外技术垄断，填补国内技术空白，持续进行技术创新与产品研发。
上海新阳创立于1999年，2011年在深圳证券交易所创业板上市。企业成立的前十年，研发出了面向半导体封装领域的第一代电子电镀与电子清洗技术，为我国半导体封装引线脚工艺加工带来了一场根本性技术变革与提升；后十年，又研发出面向芯片制造领域的第二代电子电镀与电子清洗技术，填补我国芯片制造铜互连工艺国产材料的空白，实现国产替代和自主供应能力，一举突破国外企业在这一领域的垄断。
二十多年来，上海新阳经过持续不断地研发创新，形成了拥有完整自主知识产权的电子电镀和电子清洗两大核心技术，已申请专利354项，获权187项，其中国内发明专利获权79项，国际发明专利获权5项，用于晶圆电镀与晶圆清洗的第二代核心技术已达到世界水平。紧密围绕两大核心技术，上海新阳开发研制出140余种电子电镀与电子清洗系列功能性化学材料，产品大范围的应用于集成电路制造、3D-IC先进封装、IC传统封测等领域，满足芯片铜制程90-28nm工艺技术方面的要求，成为中国半导体功能性化学材料和应用技术与服务的知名品牌。
2019年，在集成电路制造用关键工艺材料商品市场需求旺盛情况下，上海新阳启动了集成电路关键工艺材料扩产项目，布局规划了清洗液、刻蚀液、电镀液及添加剂、光刻胶、研磨液等化学品材料产能，历经两年多的建设、调试、试生产等环节，公司上海厂区年产能1.9万吨扩充目标已建设完成，并按照每个客户需求情况投入生产，为公司高水平质量的发展提供了支撑。
此外，上海新阳还启动了合肥第二生产基地项目的建设，总投资6亿余元，主要是做芯片清洗液、研磨液系列等集成电路关键工艺化学材料产品的研发、生产和销售，项目满产后年产值约10亿元。该项目计划于2024年实现量产。
今年以来，半导体行业可谓寒意沁胸，但在自主可控的大趋势下，上海新阳的业绩逆势增长。上海新阳披露的一季报显示，一季度实现营业收入2.61亿元，同比增长6.25%；净利润5639.7万元。“公司的发展离不开松江良好的营商环境，公司将继续加大创新、研发力度，为长三角G60科创走廊高水平质量的发展作出更大的贡献，早日跻身世界半导体材料供应商与应用技术服务商之列。”上海新阳董事、总经理王溯说。
